产品介绍 简要介绍: 1200度真空井式坩埚炉是由石英坩埚或者氧化炉坩埚,和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。工作温度区间800℃至1200℃。该系列设备的控制系统国际良好,具有安全可靠,操作简单,控温精度高,保温效果好,炉膛温度均匀性高,可通气氛抽真空等特点,广泛应用于高等院校,科研院所,工矿企业等实验和小批量生产。 真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,具有真空装置,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。 主要用途: 高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。 详细参数 产品型号 SG2V-1-12TP 工作电源 AC220V 50/60HZ 炉膛尺寸 外径205x内径190x高340mm 额定功率 ≤3kw 外形尺寸 450x550x650mm 重量 70kg 升温较快速度 0~30℃/min(建议不**过20℃) 产品特点 可装真空装置,能在多种气氛下工作,50段程序控温 加热元件 含钼电阻丝 常用温度 ≤1100℃ 较高温度 1200℃ 控温方式 50段智能化程序PID模糊控制 恒温精度 ±1℃ 控温仪表 智能温控仪 密封方式 全封闭 炉膛 氧化铝多晶纤维炉膛,设计合理,经久耐用,保温性能好,节能 测温元件 K型热电偶 炉门结构 上开式 主要配件 密封法兰1套,坩埚1个,真空泵1台,高温手套1副,热电偶1根等 较大真空极限 ≤0.1MPa 以上数据仅供参考,炉膛尺寸可根据客户要求定制,外形尺寸如有更改,恕不另行通知!